表面轮廓量测仪器以及扫描式电子显微镜(SEM)

积体化微光电系统中所使用之微透镜分为绕射式与折射式两
种，这些微透镜具有体积轻、重量小的特性，近年来已积极被研发
使用在 DVD 雷射读写头等应用当中。

　　利用一般积体电路制程方式来制作绕射式微透镜。另外，利用灰阶光罩来制作微透镜，
以做未来灰阶光罩的制程依据。

本文采用之半导体制程方法包括微影技术及蚀刻。于元件制作完成
后，用表面轮廓量测(Dektak)以及扫描式电子显微镜(SEM)来量测蚀刻后的形状，
并在利用杜曼-格林(Twyman-Green)干涉法以及云纹(moiré fringes) 干涉法来量测焦距。

　　并进一步分析微透镜在制作的过程中所引起的蚀刻误差造
成其光学特性的改变，计算元件在制作各步骤中误差所容许的范围，
以为制程之误差提供参考依据

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